Publications of A. von Keudell

Jacob, W.; Hopf, C.; von Keudell, A.: Chemical Sputtering oder Was treiben die Wasserstoffatome und Ionen gemeinsam auf der Oberfläche von a-C:H-Schichten? 10. Erfahrungsaustauch "Oberflächentechnologie mit Plasmaprozessen", Mühlleithen (2003)

Jacob, W.; Hopf, C.; von Keudell, A.; Meier, M.; Schwarz-Selinger, T.: Chemical Sputtering of Hydrocarbon Layers. ASEVA Workshop 14: Reactive Plasmas - Physical and Chemical Processes in Reactive Hydrocarbon Plasmas in Contact with Surfaces, Avila (2003)

Jacob, W.; Hopf, C.; von Keudell, A.; Meier, M.; Schwarz-Selinger, T.: Elementary Surface Processes during Growth and Erosion of Amorphous Hydrogenated Carbon Films. 5th Meeting on Diamond, Amorphous Carbon, Nanotubes and Related Materials, Rio de Janeiro (2003)

von Keudell, A.; Hopf, C.; Meier, M.; Schwarz-Selinger, T.; Jacob, W.: Elementary Surface Processes during Growth of a-C:H Films. ASEVA Workshop 14: Reactive Plasmas - Physical and Chemical Processes in Reactive Hydrocarbon Plasmas in Contact with Surfaces, Avila (2003)

Manz, P.; Fedorczak, N.; Dittmar, T.; Baloniak, T.; Keudell, A. v.: Quasi-linear versus nonlinear shadowing growth. DPG-Frühjahrstagung, Jena (2013)

Hopf, C.; Jacob, W.; von Keudell, A.: Chemical Sputtering of Hydrocarbon Films. 10th International Workshop on Carbon Materials for Fusion Application, Jülich (2003)

Keudell, A. v.: Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie. Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Garching (1996)

von Keudell, A.: Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie. Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Garching (1996), 93 pp.